低溫恒溫反應(yīng)浴常應(yīng)用于對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。
1、低溫恒溫循環(huán)器提供－40～100℃溫度范圍內(nèi)的低溫或恒溫液體，以滿足用冷卻水及低溫液體去降溫或恒溫儀器的需要。
2、低溫恒溫循環(huán)器特別適用與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器（皿）、發(fā)酵罐、阿貝折光儀、電子顯微鏡，低溫化學(xué)反應(yīng)釜、生物制藥反應(yīng)器等實驗設(shè)備配套使用。
3、先進的內(nèi)循環(huán)/外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出6升/分～18升/分流量的低溫恒溫液體，高揚程可達4.5米。
4、5升～30升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生物試劑或被測樣品的各種容器，直接進行低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用。
5、微機智能控制系統(tǒng)，雙窗口數(shù)字顯示，具有溫度測量值偏差修正功能，具有超溫保護，傳感器異常保護功能。觸摸按鍵操作，方便快捷。
6、風冷式高效全封閉壓縮機制冷，降溫迅速。制冷系統(tǒng)具有過熱、過電流等多重過載保護裝置。
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